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Joint data rate and EMF exposure analysis in Manhattan environments: stochastic geometry and ray tracing approaches

par Wiame, Charles;Demey, Simon;Vandendorpe, Luc;De Doncker, Philippe ;Oestges, Claude
Référence IEEE transactions on vehicular technology, 73, 1, page (894-908)
Publication Publié, 2024-01-01

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Titre:	Joint data rate and EMF exposure analysis in Manhattan environments: stochastic geometry and ray tracing approaches
Auteur:	Wiame, Charles; Demey, Simon; Vandendorpe, Luc; De Doncker, Philippe; Oestges, Claude
Informations sur la publication:	IEEE transactions on vehicular technology, 73, 1, page (894-908)
Statut de publication:	Publié, 2024-01-01
Sujet CREF:	Sciences de l'ingénieur
	Technologie des autres industries
	Mathématiques
	Téléinformatique interconnexion ordinateurs
	Electronique et électrotechnique
Mots-clés:	EMF exposure
	Manhattan Poisson line process
	ray tracing
	stochastic geometry
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0018-9545
	info:doi/10.1109/TVT.2023.3307226
	info:scp/85168736427