• Citer

SiOxNy thin films with variable refraction index: Microstructural, chemical and mechanical properties

par Godinho, Vanda ;Haro, María C Jiménez De M.C.J.d.;García-López, Javier Hugo J.;Goossens, Veerle;Delplancke, Marie-Paule ;Fernandez Fernandez, Alberto
Référence Applied surface science, 256, 14, page (4548-4553)
Publication Publié, 2010-05

Article révisé par les pairs

• Accès en ligne
• Détails
• Contenu
• Statistiques

Titre:	SiOxNy thin films with variable refraction index: Microstructural, chemical and mechanical properties
Auteur:	Godinho, Vanda; Haro, María C Jiménez De M.C.J.d.; García-López, Javier Hugo J.; Goossens, Veerle; Delplancke, Marie-Paule; Fernandez Fernandez, Alberto
Informations sur la publication:	Applied surface science, 256, 14, page (4548-4553)
Statut de publication:	Publié, 2010-05
Sujet CREF:	Métallurgie
Mots-clés:	Nano-voids
	Nanoindentation
	Nanostructured coatings
	Silicon oxynitride
	Tailored refraction index
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0169-4332
	info:doi/10.1016/j.apsusc.2010.02.045
	info:pii/S0169433210002217
	info:scp/77950594200