Study of the chemical bonding in tungsten carbide and chromium films by application of factor analysis on AES depth profiles

Référence Applied surface science, 99, page (379-392)
Publication Publié, 1996

Article révisé par les pairs

Tuning product selectivity in CH4 nanosecond pulsed plasma: Insights in the reaction pathways by a two-zone global plasma model
par Maerivoet, Stein , Fontaine, Thomas , Snyders, Rony , Reniers, François , Bogaerts, Annemie
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Searching for Fenofibrate Substrate-Induced Phases
par Sundareswaran, Supriya , Nowak, Michal G , Caporaletti, Federico , Villanueva, Martin Eduardo , Gasser, Fabian , Losada Perez, Patricia , Napolitano, Simone , Schweicher, Guillaume , Resel, Roland , Geerts, Yves
Publication 2026-05-05
Characterization of IgG N-glycan patterns in COVID-19, sepsis and healthy subjects
par Paredes-Orejudo, Victoria , Helali, Yosra , Bourez, Axelle , Rousseau, Alexandre , Van Antwerpen, Pierre , Zouaoui Boudjeltia, Karim , Piagnerelli, Michaël , Marchant, Arnaud , Delporte, Cédric
Publication 2026-06
Additive Manufacturing of Nanoscale Multimaterial Voxels Via Meniscus-Confined Electrodeposition
par Sprengel, Simon , Hengsteler, Julian , Zeng, Peng , Oliveras, Albert Ripoll , Zadeh, Muhammad Zerehi , Wu, Weishan , Zotov, Andrei , Torres Morillo, Daniel , Zhu, Xinhua , Ustarroz Troyano, Jon , Solovyeva, Vita , Zambelli, Tomaso , Momotenko, Dmitry
Publication 2026-04
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par Valkenier, Hennie
Publication 2026-06-14

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