Use of a PECVD-PVD process for the deposition of copper containing organosilicon thin films on steel
par Daniel, Alain 
;Le Pen, Christophe;Archambeau, Catherine;Reniers, François
Référence Applied surface science, 256, page (82-85)
Publication Publié, 2009
;Le Pen, Christophe;Archambeau, Catherine;Reniers, François Référence Applied surface science, 256, page (82-85)
Publication Publié, 2009
Article révisé par les pairs
| Titre: |
|
| Auteur: | Daniel, Alain; Le Pen, Christophe; Archambeau, Catherine; Reniers, François |
| Informations sur la publication: | Applied surface science, 256, page (82-85) |
| Statut de publication: | Publié, 2009 |
| Sujet CREF: | Chimie analytique |
| Chimie des surfaces et des interfaces | |
| Mots-clés: | Antibacterial |
| Copper | |
| HMDSO | |
| PECVD | |
| Sputtering | |
| Steel | |
| Note générale: | SCOPUS: ar.j |
| Langue: | Anglais |
| Identificateurs: | urn:issn:0169-4332 |
| info:doi/10.1016/j.apsusc.2009.04.195 | |
| info:pii/S0169433209005832 | |
| info:scp/71749105287 |
