par Demaude, Annaelle 
;Petitjean, David ;Brabant, Marie ;Gordon, Luke M.J.;Reniers, François
Référence Plasma chemistry and plasma processing, 43, 6, page (1731-1748)
Publication Publié, 2023-11-01
;Petitjean, David ;Brabant, Marie ;Gordon, Luke M.J.;Reniers, François Référence Plasma chemistry and plasma processing, 43, 6, page (1731-1748)
Publication Publié, 2023-11-01
Article révisé par les pairs
| Titre: |
|
| Auteur: | Demaude, Annaelle; Petitjean, David; Brabant, Marie; Gordon, Luke M.J.; Reniers, François |
| Informations sur la publication: | Plasma chemistry and plasma processing, 43, 6, page (1731-1748) |
| Statut de publication: | Publié, 2023-11-01 |
| Sujet CREF: | Métallurgie |
| Génie chimique | |
| Chimie | |
| Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.] | |
| Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.] | |
| Physique de l'état condense [supraconducteur] | |
| Mots-clés: | Area-selective deposition |
| Atmospheric plasma | |
| Microdischarges | |
| Patterned surfaces | |
| X-ray photoelectron spectroscopy | |
| Note générale: | SCOPUS: ar.j |
| Langue: | Anglais |
| Identificateurs: | urn:issn:0272-4324 |
| info:doi/10.1007/s11090-023-10355-6 | |
| info:scp/85165262247 |
