Single source precursor vs. precursor mixture for N-rich plasma polymer deposition: Plasma diagnostics and thin film analyses

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;Vandenabeele, Cédric R.;SNYDERS, Rony UMONS ;Girard-Lauriault, Pierre-Luc
Référence Plasma processes and polymers, 14, 11, page (1700030)
Publication Publié, 2017-11

Article révisé par les pairs

Titre:	Single source precursor vs. precursor mixture for N-rich plasma polymer deposition: Plasma diagnostics and thin film analyses
Auteur:	Buddhadasa, Madhuwanthi; Vandenabeele, Cédric R.; SNYDERS, Rony UMONS; Girard-Lauriault, Pierre-Luc
Informations sur la publication:	Plasma processes and polymers, 14, 11, page (1700030)
Statut de publication:	Publié, 2017-11
Sujet CREF:	Physique des plasmas
	Connaissance des matériaux
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:1612-8850
	info:doi/10.1002/ppap.201700030

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