TEM analysis of near‐coincidence grain boundaries in silicon

Bary, Abdouraman; Nouet, Gérard; Delavignette, Pierre

doi:doi/10.1111/j.1365-2818.1990.tb03011.x

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TEM analysis of near‐coincidence grain boundaries in silicon

par Bary, Abdouraman ;Nouet, Gérard ;Delavignette, Pierre

Référence Journal of microscopy, 158, 3, page (403-414)
Publication Publié, 1990

Article révisé par les pairs

Titre:	TEM analysis of near‐coincidence grain boundaries in silicon
Auteur:	Bary, Abdouraman; Nouet, Gérard; Delavignette, Pierre
Informations sur la publication:	Journal of microscopy, 158, 3, page (403-414)
Statut de publication:	Publié, 1990
Sujet CREF:	Histologie
	Pathologie générale
	Médecine légale
Mots-clés:	Coincidence grain boundaries
	Kikuchi pattern
	secondary dislocations
	silicon
	transmission electron microscopy
Note générale:	SCOPUS: ar.j
	FLWNA
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0022-2720
	info:doi/10.1111/j.1365-2818.1990.tb03011.x
	info:scp/0024995869

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