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Plasma diagnostics of an Ar/NH 3 direct-current reactive magnetron sputtering discharge for SiN x deposition

par Henry, Frédéric ;Duluard, Corinne ;Batan, Abdelkrim ;Reniers, François
Référence Thin solid films, 520, 20, page (6386-6392)
Publication Publié, 2012-08

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Titre:	Plasma diagnostics of an Ar/NH 3 direct-current reactive magnetron sputtering discharge for SiN x deposition
Auteur:	Henry, Frédéric; Duluard, Corinne; Batan, Abdelkrim; Reniers, François
Informations sur la publication:	Thin solid films, 520, 20, page (6386-6392)
Statut de publication:	Publié, 2012-08
Sujet CREF:	Métallurgie
	Physique de l'état solide
	Physique des surfaces
	Chimie des solides
Mots-clés:	Optical emission spectroscopy
	Plasma magnetron
	Silicon nitride
	X-ray photoelectron spectroscopy
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0040-6090
	info:doi/10.1016/j.tsf.2012.06.048
	info:pii/S0040609012007584
	info:scp/84863982316