Competitive and synergistic effects between excimer VUV radiation and O radicals on the etching mechanisms of polyethylene and fluoropolymer surfaces treated by an atmospheric He-O2 post-discharge

;Viville, Pascal ;Lazzaroni, Roberto
Référence Journal of physics. D, Applied physics, 46, 31, 315203
Publication Publié, 2013-08

Article révisé par les pairs

Titre:	Competitive and synergistic effects between excimer VUV radiation and O radicals on the etching mechanisms of polyethylene and fluoropolymer surfaces treated by an atmospheric He-O2 post-discharge
Auteur:	Dufour, Thierry; Hubert, Julie; Vandencasteele, Nicolas; Reniers, François; Viville, Pascal; Lazzaroni, Roberto
Informations sur la publication:	Journal of physics. D, Applied physics, 46, 31, 315203
Statut de publication:	Publié, 2013-08
Sujet CREF:	Physique de l'état condense [supraconducteur]
	Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
	Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
	Métallurgie
	Physique de l'état solide
	Acoustique
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0022-3727
	info:doi/10.1088/0022-3727/46/31/315203
	info:scp/84880363908

Référencement	Visibilité	Pérennité	Facilité
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