Chemical mechanisms inducing a dc current measured in the flowing post-discharge of an RF He-O 2 plasma torch

Référence Plasma sources science & technology, 21, 4, 045013
Publication Publié, 2012-08

Article révisé par les pairs

Titre:	Chemical mechanisms inducing a dc current measured in the flowing post-discharge of an RF He-O 2 plasma torch
Auteur:	Dufour, Thierry; Hubert, Julie; Vandencasteele, Nicolas; Reniers, François
Informations sur la publication:	Plasma sources science & technology, 21, 4, 045013
Statut de publication:	Publié, 2012-08
Sujet CREF:	Physique de l'état condense [supraconducteur]
	Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
	Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0963-0252
	info:doi/10.1088/0963-0252/21/4/045013
	info:scp/84864643325

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