Electrochemical characterization of copper deposited on plasma and thermally modified titanium surfaces

Teng, Karseng; Delplancke, Jean-Luc; Zhang, Jing; O'Keefe, Thomas

doi:doi/10.1007/s11663-998-0133-8

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Electrochemical characterization of copper deposited on plasma and thermally modified titanium surfaces

par Teng, Karseng ;Delplancke, Jean-Luc

;Zhang, Jing

;O'Keefe, Thomas
Référence Metallurgical and materials transactions. B, Process metallurgy and materials processing science, 29, 4, page (749-754)
Publication Publié, 1998

Article révisé par les pairs

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