Titre :
  • Use of a PECVD-PVD process for the deposition of copper containing organosilicon thin films on steel
Auteur : Daniel, Alain ; Le Pen, Christophe ; Archambeau, Catherine ; Reniers, François
Informations sur la publication : Applied surface science, 256, (page 82-85)
Statut de publication : Publié, 2009
Sujet CREF : Chimie analytique
Chimie des surfaces et des interfaces
Mots-clés : Antibacterial
Copper
HMDSO
PECVD
Sputtering
Steel
Note : SCOPUS: ar.j
Langue :
  • Anglais
Identificateurs : urn:issn:0169-4332 
info:doi/10.1016/j.apsusc.2009.04.195
info:pii/S0169433209005832