par Buchal, Ch.;Delplancke, Jean-Luc ;Wolff, Michel;Elfenthal, Lothar;Schultze, Joachim Walter
Référence Radiation effects and defects in solids, 114, 3, page (225-237)
Publication Publié, 1990-08
Article révisé par les pairs
Titre:
  • Repassivation and ion migration in pd-Implanted tiO2layers on ti
Auteur:Buchal, Ch.; Delplancke, Jean-Luc; Wolff, Michel; Elfenthal, Lothar; Schultze, Joachim Walter
Informations sur la publication:Radiation effects and defects in solids, 114, 3, page (225-237)
Statut de publication:Publié, 1990-08
Sujet CREF:Isotopes et éléments radioactifs
Physique atomique et nucléaire
Physique de l'état condense [supraconducteur]
Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
Métallurgie et mines
Mots-clés:anodic polarization
HEED
ion migration
metal-oxide interface
palladium
RBS
recrystallization
repassivation
SEM
TEM
titanium
Note générale:SCOPUS: ar.j
SCOPUS: ar.j
Langue:Anglais
Identificateurs:urn:issn:1042-0150
info:doi/10.1080/10420159008213100
info:scp/0012278841
VX-006679