Titre :
  • Fluorine negative ion density measurement in a dual frequency capacitive plasma etch reactor by cavity ring-down spectroscopy
Auteur : Booth, Jean Paul ; Cormac, Corr ; Curley, Garrett A. ; Foldes, Tomas ; Jolly, Jacques ; Guillon, Jean
Informations sur la publication : Applied Physics Letters, 88, 15, 151502, (page 151502)
Statut de publication : Publié, 2006-04-10
Sujet CREF : Physique des plasmas
Spectroscopie [électromagnétisme, optique, acoustique]
Mots-clés : Chemical reactors; Light absorption; Mixtures; Negative ions; Spectroscopic analysis
Frequency excitation; Plasma etch reactor; Ring-down spectroscopy
Langue :
  • Anglais
Identificateurs : urn:issn:E226189