Fluorine negative ion density measurement in a dual frequency capacitive plasma etch reactor by cavity ring-down spectroscopy

;Jolly, Jacques J.;Guillon, Jean
Référence Applied Physics Letters, 88, 15, page (151502), 151502
Publication Publié, 2006-04-10

Article révisé par les pairs

Titre:	Fluorine negative ion density measurement in a dual frequency capacitive plasma etch reactor by cavity ring-down spectroscopy
Auteur:	Booth, Jean Paul; Cormac, Corr; Curley, Garrett A.; Foldes, Tomas; Jolly, Jacques J.; Guillon, Jean
Informations sur la publication:	Applied Physics Letters, 88, 15, page (151502), 151502
Statut de publication:	Publié, 2006-04-10
Sujet CREF:	Physique des plasmas
	Spectroscopie [électromagnétisme, optique, acoustique]
Mots-clés:	Chemical reactors; Light absorption; Mixtures; Negative ions; Spectroscopic analysis
	Frequency excitation; Plasma etch reactor; Ring-down spectroscopy
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:E226189

Référencement	Visibilité	Pérennité	Facilité
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