par Arbib, Mohamed 
;Zhang, Bing;Lazarov, V.;Stoychev, D.;Milchev, A.;Buess Herman, Claudine
Référence Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77)
Publication Publié, 2001
;Zhang, Bing;Lazarov, V.;Stoychev, D.;Milchev, A.;Buess Herman, Claudine Référence Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77)
Publication Publié, 2001
Article révisé par les pairs
| Titre: |
|
| Auteur: | Arbib, Mohamed; Zhang, Bing; Lazarov, V.; Stoychev, D.; Milchev, A.; Buess Herman, Claudine |
| Informations sur la publication: | Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77) |
| Statut de publication: | Publié, 2001 |
| Sujet CREF: | Chimie |
| Electrochimie hautes et basses températures | |
| Mots-clés: | Electrodeposition |
| Nucleation and growth kinetics | |
| Rhodium | |
| Langue: | Anglais |
| Identificateurs: | urn:issn:1572-6657 |
| info:doi/10.1016/S0022-0728(01)00545-9 | |
| info:scp/0035822906 |
