par Arbib, Mohamed ;Zhang, Bing;Lazarov, V.;Stoychev, D.;Milchev, A.;Buess Herman, Claudine
Référence Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77)
Publication Publié, 2001
Référence Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77)
Publication Publié, 2001
Article révisé par les pairs
Titre: |
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Auteur: | Arbib, Mohamed; Zhang, Bing; Lazarov, V.; Stoychev, D.; Milchev, A.; Buess Herman, Claudine |
Informations sur la publication: | Journal of electroanalytical chemistry, 510, page (67-77) |
Statut de publication: | Publié, 2001 |
Sujet CREF: | Chimie |
Electrochimie hautes et basses températures | |
Mots-clés: | Electrodeposition |
Nucleation and growth kinetics | |
Rhodium | |
Langue: | Anglais |
Identificateurs: | urn:issn:1572-6657 |
info:doi/10.1016/S0022-0728(01)00545-9 | |
info:scp/0035822906 |