par  Rossi, François;André, Bernard;Van Veen, Anton Tom;Mijnarends, Peter E.;Schut, Henk;Labohm, Freek;Delplancke, Marie-Paule  ;Dunlop, Hugh;Anger, Eric
;Dunlop, Hugh;Anger, Eric
Référence Thin solid films, 253, 1-2, page (85-89)
Publication Publié, 1994-12
           ;Dunlop, Hugh;Anger, Eric
;Dunlop, Hugh;Anger, EricRéférence Thin solid films, 253, 1-2, page (85-89)
Publication Publié, 1994-12
                                                                                                       
			Article révisé par les pairs
                                                  
        | Titre: | 
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| Auteur: | Rossi, François; André, Bernard; Van Veen, Anton Tom; Mijnarends, Peter E.; Schut, Henk; Labohm, Freek; Delplancke, Marie-Paule; Dunlop, Hugh; Anger, Eric | 
| Informations sur la publication: | Thin solid films, 253, 1-2, page (85-89) | 
| Statut de publication: | Publié, 1994-12 | 
| Sujet CREF: | Sciences de l'ingénieur | 
| Mots-clés: | Carbon | 
| Deposition process | |
| Ion bombardment | |
| Physical vapour deposition | |
| Note générale: | SCOPUS: ar.j | 
| Langue: | Anglais | 
| Identificateurs: | urn:issn:0040-6090 | 
| info:doi/10.1016/0040-6090(94)90299-2 | |
| info:scp/0028732662 | 



