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The Coalescence Behavior of Two-Dimensional Materials Revealed by Multiscale in Situ Imaging during Chemical Vapor Deposition Growth

par Wang, Zhu-Jun;Dong, Jichen;Li, Linfei;Dong, Guocai;Cui, Yihui;Yang, Yang;Wei, Wei;Blume, Raoul;Li, Qing;Wang, Li;Xu, Xiaozhi;Liu, Kaihui;Barroo, Cédric ;Frenken, Joost J.W.M.;Fu, Qiang;Bao, Xinhe;Schlögl, Robert;Ding, Feng;Willinger, Marc-Georg
Référence ACS Nano, 14, 2, page (1902-1918)
Publication Publié, 2020-02

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Titre:	The Coalescence Behavior of Two-Dimensional Materials Revealed by Multiscale in Situ Imaging during Chemical Vapor Deposition Growth
Auteur:	Wang, Zhu-Jun; Dong, Jichen; Li, Linfei; Dong, Guocai; Cui, Yihui; Yang, Yang; Wei, Wei; Blume, Raoul; Li, Qing; Wang, Li; Xu, Xiaozhi; Liu, Kaihui; Barroo, Cédric; Frenken, Joost J.W.M.; Fu, Qiang; Bao, Xinhe; Schlögl, Robert; Ding, Feng; Willinger, Marc-Georg
Informations sur la publication:	ACS Nano, 14, 2, page (1902-1918)
Statut de publication:	Publié, 2020-02
Sujet CREF:	Métallurgie et mines
	Sciences de l'ingénieur
	Statistique mathématique
	Probabilités
Mots-clés:	2D materials
	chemical vapor deposition
	complementary in situ methods
	multiscale in situ imaging
	pressure gap
	seamless coalescence
Note générale:	SCOPUS: ar.j
	DecretOANoAutActif
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:1936-0851
	info:doi/10.1021/acsnano.9b08221
	info:scp/85081173379