Reaction-diffusion approach to nanostructure formation during thin-film deposition

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Référence Philosophical magazine, 83, 31-34, page (3829-3846)
Publication Publié, 2003-11

Article révisé par les pairs

Titre:	Reaction-diffusion approach to nanostructure formation during thin-film deposition
Auteur:	Walgraef, Daniel
Informations sur la publication:	Philosophical magazine, 83, 31-34, page (3829-3846)
Statut de publication:	Publié, 2003-11
Sujet CREF:	Physique de l'état condense [supraconducteur]
	Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
	Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
Note générale:	SCOPUS: cp.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:1478-6435
	info:doi/10.1080/14786430310001600204
	info:scp/0346331128

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