The influence of sputtering time and oxygen partial pressure on electrical resistivity of Bi:2201 thin films

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Référence International journal of modern physics b, 18, 14, page (2085-2090)
Publication Publié, 2004-06

Article révisé par les pairs

Titre:	The influence of sputtering time and oxygen partial pressure on electrical resistivity of Bi:2201 thin films
Auteur:	Pop, Aurel; Ilonca, Gh; Deltour, Robert
Informations sur la publication:	International journal of modern physics b, 18, 14, page (2085-2090)
Statut de publication:	Publié, 2004-06
Sujet CREF:	Chimie des solides
Mots-clés:	Bi:2201 thin film
	Electrical resistiviy
	Sputtering deposition
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0217-9792
	info:doi/10.1142/S0217979204025233
	info:scp/3543075808

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