par Pop, Aurel ;Ilonca, Gh;Deltour, Robert
Référence International journal of modern physics b, 18, 14, page (2085-2090)
Publication Publié, 2004-06
Article révisé par les pairs
Titre:
  • The influence of sputtering time and oxygen partial pressure on electrical resistivity of Bi:2201 thin films
Auteur:Pop, Aurel; Ilonca, Gh; Deltour, Robert
Informations sur la publication:International journal of modern physics b, 18, 14, page (2085-2090)
Statut de publication:Publié, 2004-06
Sujet CREF:Chimie des solides
Mots-clés:Bi:2201 thin film
Electrical resistiviy
Sputtering deposition
Note générale:SCOPUS: ar.j
Langue:Anglais
Identificateurs:urn:issn:0217-9792
info:doi/10.1142/S0217979204025233
info:scp/3543075808