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"Curley, Garrett A."
.
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1
à
2
.
Fluorine negative ion density measurement in a dual frequency capacitive plasma etch reactor by cavity ring-down spectroscopy
par
Booth, Jean Paul
; Cormac, Corr
; Curley, Garrett A.
; Foldes, Tomas
; Jolly, Jacques J.
; Guillon, Jean
Référence
Applied Physics Letters, 88, 15, 151502, (page 151502)
Publication
Publié, 2006-04-10
Article révisé par les pairs
Accès en ligne
F- detection by CRDS in a dual-frequency capacitive plasma in Ar/C4F8/O2
par
Curley, Garrett A.
; Cormac, Corr
; Foldes, Tomas
; Booth, Jean Paul
Publication
Non publié, 2005-09-20
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