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Caractérisation de décharges magnétron Ar/NH3 et Ar/H2/N2 pour la synthèse de films minces de nitrure de silicium

par Henry, Frédéric
Président du jury Buess Herman, Claudine
Promoteur Reniers, François
Publication Non publié, 2011-10-25

Thèse de doctorat

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Titre:	Caractérisation de décharges magnétron Ar/NH3 et Ar/H2/N2 pour la synthèse de films minces de nitrure de silicium
Autre titre:	Characterization of magnetron discharges in Ar/NH3 and Ar/H2/N2 gas mixtures for silicon nitride thin film deposition:
Auteur:	Henry, Frédéric
Président du jury:	Buess Herman, Claudine
Promoteur:	Reniers, François
Membre du jury:	Delplancke, Marie-Paule; Vander Auwera, Jean; Silberberg, Eric; Konstantinidis, Stephanos
Informations sur la publication:	Université libre de Bruxelles, Faculté des Sciences – Chimie, Bruxelles
Date de défense:	2011-10-25
Sujet CREF:	Chimie
Mots-clés:	Silicon nitride
	Spraying
	Nitrure de silicium
	Pulvérisation
	pulvérisation magnétron réactive
	silicon nitride
	Plasma
Intitulé du diplôme:	Doctorat en Sciences
Langue:	Français
Anneé académique:	2011-2012
Identificateurs:	bictel.ulb.ac.be:ULBetd-10262011-153702
	ulbcat.ulb.ac.be:934388