Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of boron nitride thin films: analysis of gaseous species

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Référence 9th International Conference on Thin Films(Septembre 1993: Vienna, Austria), Proceedings
Publication Publié, 1993

Publication dans des actes

Titre:	Plasma enhanced chemical vapour deposition (PECVD) of boron nitride thin films: analysis of gaseous species
Auteur:	Delplancke, Marie-Paule; Roland, P.; Winand, René
Informations sur la publication:	9th International Conference on Thin Films(Septembre 1993: Vienna, Austria), Proceedings
Statut de publication:	Publié, 1993
Sujet CREF:	Sciences de l'ingénieur
Langue:	Anglais

Référencement	Visibilité	Pérennité	Facilité
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