PTFE surface etching in the post-discharge of a scanning RF plasma torch: Evidence of ejected fluorinated species

Référence Plasma processes and polymers, 9, 8, page (820-829)
Publication Publié, 2012-08

Article révisé par les pairs

Titre:	PTFE surface etching in the post-discharge of a scanning RF plasma torch: Evidence of ejected fluorinated species
Auteur:	Dufour, Thierry; Hubert, Julie; Viville, Pascal; Duluard, Corinne; Desbief, Simon; Lazzaroni, Roberto; Reniers, François
Informations sur la publication:	Plasma processes and polymers, 9, 8, page (820-829)
Statut de publication:	Publié, 2012-08
Sujet CREF:	Physique de l'état condense [supraconducteur]
	Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
	Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
	Métallurgie
Mots-clés:	hydrophobic surfaces
	PTFE etching
	RF plasma torch treatment
	scanning RF plasma torch
Note générale:	SCOPUS: ar.j
	FLWIN
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:1612-8850
	info:doi/10.1002/ppap.201100209
	info:scp/84862838312

Référencement	Visibilité	Pérennité	Facilité
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