par Batan, Abdelkrim Cliquez pour télécharger la liste de publications de l'auteur; Franquet, Alexis; Vereecken, Jean Liste de publications; Reniers, François Liste de publications
Référence Surface and interface analysis, 40, 3-4, (page 754-757)
Publication Publié, 2008-03
Article révisé par les pairs
Titre :
  • Characterisation of the silicon nitride thin films deposited by plasma magnetron
Auteur : Batan, Abdelkrim ; Franquet, Alexis ; Vereecken, Jean ; Reniers, François
Informations sur la publication : Surface and interface analysis, 40, 3-4, (page 754-757)
Statut de publication : Publié, 2008-03
Sujet CREF : Physique de l'état condense [supraconducteur]
Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
Physique des surfaces
Chimie
Métallurgie
Chimie des solides
Mots-clés : FTIR
Plasma reactive magnetron sputtering
Silicon nitride thin films stoichiometry
XPS
Note : SCOPUS: cp.j
FLWIN
Langue :
  • Anglais
Identificateurs : urn:issn:0142-2421 
info:doi/10.1002/sia.2730