par Batan, Abdelkrim ;Franquet, Alexis;Vereecken, Jean ;Reniers, François
Référence Surface and interface analysis, 40, 3-4, page (754-757)
Publication Publié, 2008-03
Article révisé par les pairs
Titre:
  • Characterisation of the silicon nitride thin films deposited by plasma magnetron
Auteur:Batan, Abdelkrim; Franquet, Alexis; Vereecken, Jean; Reniers, François
Informations sur la publication:Surface and interface analysis, 40, 3-4, page (754-757)
Statut de publication:Publié, 2008-03
Sujet CREF:Physique de l'état condense [supraconducteur]
Physique de l'état condense [struct., propr. thermiques, etc.]
Physique de l'état condense [struct., électronique, etc.]
Physique des surfaces
Chimie
Métallurgie
Chimie des solides
Mots-clés:FTIR
Plasma reactive magnetron sputtering
Silicon nitride thin films stoichiometry
XPS
Note générale:SCOPUS: cp.j
FLWIN
Langue:Anglais
Identificateurs:urn:issn:0142-2421
info:doi/10.1002/sia.2730
info:scp/42449151820