par Wolff, Michel; Schultze, Joachim Walter; Delplancke, Jean-Luc Liste de publications; Buchal, Ch.; Elfenthal, Lothar
Référence Journal of electroanalytical chemistry and interfacial electrochemistry, 300, 1-2, (page 283-293)
Publication Publié, 1991-02
Article révisé par les pairs
Titre :
  • Radiation damage and doping by implantation of Ti or Pd ions into TiO2 layers on Ti
Auteur : Wolff, Michel ; Schultze, Joachim Walter ; Delplancke, Jean-Luc ; Buchal, Ch. ; Elfenthal, Lothar
Informations sur la publication : Journal of electroanalytical chemistry and interfacial electrochemistry, 300, 1-2, (page 283-293)
Statut de publication : Publié, 1991-02
Sujet CREF : Sciences de l'ingénieur
Note : SCOPUS: ar.j
Langue :
  • Anglais
Identificateurs : urn:issn:0022-0728 
info:doi/10.1016/0022-0728(91)85400-J
info:pii/002207289185400J
VX-005809