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Radiation damage and doping by implantation of Ti or Pd ions into TiO2 layers on Ti

par Wolff, Michel;Schultze, Joachim Walter;Delplancke, Jean-Luc ;Buchal, Ch.;Elfenthal, Lothar
Référence Journal of electroanalytical chemistry and interfacial electrochemistry, 300, 1-2, page (283-293)
Publication Publié, 1991-02

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Titre:	Radiation damage and doping by implantation of Ti or Pd ions into TiO2 layers on Ti
Auteur:	Wolff, Michel; Schultze, Joachim Walter; Delplancke, Jean-Luc; Buchal, Ch.; Elfenthal, Lothar
Informations sur la publication:	Journal of electroanalytical chemistry and interfacial electrochemistry, 300, 1-2, page (283-293)
Statut de publication:	Publié, 1991-02
Sujet CREF:	Sciences de l'ingénieur
Note générale:	SCOPUS: ar.j
Langue:	Anglais
Identificateurs:	urn:issn:0022-0728
	info:doi/10.1016/0022-0728(91)85400-J
	info:pii/002207289185400J
	info:scp/0012332251
	VX-005809